Зависимость захвата водорода в графите мпг

УДК 533.9(06) Физика плазмы
Л.Б. БЕГРАМБЕКОВ, Д.А. ПАВЛОВ, П.А. ШИГИН
Московский инженерно-физический институт (государственный университет)
ЗАВИСИМОСТЬ ЗАХВАТА ВОДОРОДА В ГРАФИТЕ МПГ-8
ОТ ПАРАМЕТРОВ ОБЛУЧЕНИЯ
Исследуется зависимости термодесорбции водорода из графита МПГ-8 в зависимости от температуры графита и плотности потока бомбардирующих ионов
водорода.
Работа проводилась на установке термодесорбционного анализа, позволяющая облучать образцы в плазме газового разряда и регистрировать
ТДС спектры при помощи модернизированного монопольного массспектрометра МХ-7304 [1]. Образцы имплантировались ионами Н 2+ с
энергией 100 эВ/нуклон.
Для изучения зависимости захвата водорода в графитах от температуры образцы облучались в диапазоне 100–700 К. Плотность потока ионов
составляла 1*1015 ион/(см2*сек). При изучении зависимости от плотности
тока образцы облучались при температуре 470 К до одинаковых доз
7*1019 ион/см2. Плотность ионного тока варьировалась от 1*10 15 до
1*1017 ион/(см2*сек).
Показано, что захват водорода в исследуемом диапазоне температур
снижался более, чем в 3 раза (от 1,1*10 17 до 2,3*1016 ат. водорода). При
этом менялось соотношение высоты пиков ТДС спектров. В частности,
высота пика при 800 К, соответствующего CH2-комплексам, уменьшалась
примерно в 4 раза, а высота пика на 1200 К, соответствующего CHкомплексам, снижалась до 2 раз.
Такие изменения ТДС спектров свидетельствуют о том, что степень
разупорядоченности структуры графита при ионной бомбардировке
уменьшается с повышением температуры. Перестроение формы ТДС
спектров наблюдалось также при изменении плотности ионного тока. Полученные результаты анализируются на основе представлений [2] о том,
что радиационные вакансии являются основной движущей силой, ответственной за проникновение имплантированного водорода в глубь
графита.
Список литературы
1. Титов Н.В., Шигин П.А. Модернизация систем управления и регистрации монопольного масс-спектрометра МХ-7304 // Научная сессия МИФИ–2005.
2. Davis J.W., Haasz A.A. and Walsh D.S. // J. Nucl. Mater. 176&177 (1990). 942.
116
ISBN 5-7262-0555-3. НАУЧНАЯ СЕССИЯ МИФИ-2005. Том 4
УДК 533.9(06) Физика плазмы
ISBN 5-7262-0555-3. НАУЧНАЯ СЕССИЯ МИФИ-2005. Том 4
117