Научно-практический семинар 28 мая 2012 года Время 11.00-11.10 Вступительное слово 11.10-11.20 Welcome and “About Raith company” 11.20-11.30 ОПТЭК представляет высокотехнологичные решения для науки 11.30-12.15 Raith product portfolio and applications 12.15-12.30 12.30-13.00 Coffee break Основные достижения Учреждения Российской академии наук Института сверхвысокочастотной полупроводниковой электроники РАН (ИСВЧПЭ РАН) в области создания монолитных интегральных схем КВЧ диапазона Resistless Lithography with Raith ionLiNE. Instrument concept and applications 13.00-13.30 Доклад 13.30-14.30 Разработка технологии изготовления матрицы линз Френеля с помощью Raith QUANTUM 14.00-14.20 Методы экспонирования без стыковки полей Докладчик Мальцев Петр Павлович д.т.н., профессор, директор ИСВЧПЭ РАН, Москва Dirk Brueggemann Director Sales New Markets, Raith GmbH, Germany Власенко Вячеслав Сергеевич Руководитель направления материаловедения, ООО «ОПТЭК», Москва Martin Kirchner Director Sales New Markets, Raith GmbH, Germany Федоров Юрий Владимирович Зав.Лаб. ИСВЧПЭ РАН, Москва Sven Bauerdick Product Manager, Raith GmbH, Germany Гончаров Антон Сергеевич инженер НИИ РЛ МГТУ им. Н.Э. Баумана, Москва Леонид Владимирович Литвин application scientist, Raith GmbH, Germany Время Доклад Докладчик 14.20 -15.30 Обед 15.30-16.00 Особенности применения электронно-лучевого литографа Raith 150TWO фирмы Raith GmbH при изготовлении Т-образных затворов полевых транзисторов для монолитных интегральных схем диапазона 30-90 ГГц. Галиев Ринат Радифович м.н.с. ИСВЧПЭ РАН, Москва 16.00-16.45 Ерофеев Евгений Викторович к.т.н, инженер ЗАО "НПФ "Микран" , Томск 16.45-17.15 Опыт применения электронно-лучевого литографа Raith 150TWO для мелкосерийного производства GaAs pHEMT и СВЧ МИС на пластинах диаметром 100 мм Методы изготовления наноструктур на основе Кремния-на-Изоляторе 17.15-18.00 Круглый стол Преснов Денис Евгеньевич к.ф-м.н., с.н.с. Лаборатория Криоэлектроники, МГУ им. М.В.Ломоносова, Москва Дискуссия-обсуждение Дата Время Группа 29 мая 11.00-12.00 Группа 1 30 мая 11.00-12.00 Группа 2 31 мая 11.00-12.00 Группа 3 1 июня 11.00-12.00 Группа 4 2 июня 11.00-12.00 Группа 5